据英国《金融时报》中芯国际正在测试生产中国首台本土制造的先进芯片制造设备，该设备旨在制造人工智能处理器。

上海初创公司宇量昇研发的国产深紫外（DUV）光刻机该设备采用浸没式技术，可用于28纳米制程，并通过多重曝光技术生产7纳米甚至5纳米芯片。目前测试的早期结果较为乐观，但尚不清楚该设备是否及何时能实现大规模量产。

这一发展将帮助中国克服美国对芯片制造技术出口的管控，并进一步减少该国对西方技术在先进人工智能处理器方面的依赖。