中国科学院宣布成功研发全固态深紫外DUV激光光源技术

最终输出193纳米波长的激光光束，与主流DUV光刻一致，可支持3nm芯片制造

 

 

用四次谐波转换FHG，将1030nm激光转换为258nm，输出功率1.2W。用光学参数放大，1030nm激光转换1553nm，输出功率700mW，两路激光通过串级硼酸锂晶体混合，生成193nm波长激光光束

 

最终获得激光平均功率70mW，频率6kHz，线宽低于880MHz，半峰全宽小于0.11pm，光谱纯度与现有商用准分子激光系统相当。

 

ASML的DUV用氟化氙准分子激光，通过氩氟气体混合物在高压电场下生成不稳定分子，释放193nm波长光子，以高能量短脉冲发射，输出功率100-120W，频率8k-9kHz，通过光学系统调整，用于光刻设备。