上海芯上微装AST6200步进光刻机是全自主可控的步进式光刻设备，应用于MEMS微机电系统，功率半导体，模拟芯片，先进封装，等高端化合物半导体制造.

高精度套刻配置高精度对准系统，实现正面套刻80nm，背面套刻500nm，确保多层图形精准套刻，提升器件良率。

AST6200搭载自主研发全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层工艺管理，实现完全自主。