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中国光刻机技术LDP突破

   时间:2025/3/10      阅读:55    关键词:光刻机

 

中国自主研发的E光刻机采用激光诱导放电等离子体(LDP)技术正在测试,激光诱导放电等离子体(LDP)极紫外(EUV)技术商业化的推进,激光诱导放电等离子体(LDP)EUV生成商业化推动是光刻技术的DeepSeek时刻。


 中国光刻机技术LDP突破

 

LDP与阿斯麦LPP技术比较

1.LDP比阿斯麦所采用的激光产生等离子体(LPP)技术效率要高得多,
2.LDP将少量锡气化成两个电极之间的一团云雾,然后利用高电压将锡蒸气转化为等离子体。电子与锡离子碰撞,产生13.5纳米的极紫外光。而LPP需要高能激光和复杂的现场可编程门阵列(FPGA)实时控制电子设备。

3.LDP方法更简单、更小巧、更具成本效益,且能源效率更高。

 

 中国光刻机技术LDP突破